國產(chǎn)光刻機(jī)真的來了，適用28nm工藝，上海微電子出品
2020-6-8 17:44:58??????點(diǎn)擊：
[導(dǎo)讀]近，半導(dǎo)體制造被卡脖子的消息引發(fā)業(yè)界極大關(guān)注，其中一個重量級設(shè)備就是光刻機(jī)。不過，一個好消息是，國產(chǎn)光刻機(jī)真的要來了，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產(chǎn)的沉浸式光刻機(jī)。
最近，半導(dǎo)體制造被卡脖子的消息引發(fā)業(yè)界極大關(guān)注，其中一個重量級設(shè)備就是光刻機(jī)。不過，一個好消息是，國產(chǎn)光刻機(jī)真的要來了，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產(chǎn)的沉浸式光刻機(jī)。
雖然不及14nm、7nm甚至5nm先進(jìn)，但28nm工藝仍然是當(dāng)下半導(dǎo)體制造的主流工藝。
作為IC制造的重要工藝，光刻是其中非常重要的一項(xiàng)操作，據(jù)有關(guān)數(shù)據(jù)顯示，光刻在IC制造中所占的時間最長，而光刻機(jī)在半導(dǎo)體整體制造設(shè)備成本中占比也高達(dá)第一位，約為27%。
因此，28nm光刻機(jī)國產(chǎn)化對國內(nèi)半導(dǎo)體晶圓廠和即將上馬的半導(dǎo)體晶圓廠都是一個極大的利好消息。
21IC家了解到，上海微電子成立于2002年，是國內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商。
上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機(jī)產(chǎn)品，其中600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù)，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。500系列面向IC后道先進(jìn)封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。
光刻機(jī)小常識
所謂光刻，就是使用光在硅上印刷微小的電路圖案，從而批量生產(chǎn)各類集成電路芯片。光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是投影系統(tǒng)，把設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)的芯片圖案縮小之后刻在半導(dǎo)體材料上，經(jīng)過復(fù)雜的加工處理，就得到了各種功能的芯片。m.xx99av.com
使用的光波長越小，制造芯片的工藝制程越高。光刻技術(shù)經(jīng)歷了紫外全譜(300～450nm)、 G 線(436nm)、 I 線 (365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV，13.5nm)六個階段。根據(jù)所使用的光的波長不同，可以將光刻機(jī)分為不同的種類。例如，使用極紫外(EUV，13.5nm)光的光刻機(jī)就是目前最高端的用于制造7nm工藝以上芯片的EUV光刻機(jī)。
在光刻機(jī)生產(chǎn)廠商中，荷蘭阿斯麥(ASML)是曝光最高的，因?yàn)樗殉指叨斯饪虣C(jī)市場，是現(xiàn)階段唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，除了ASML，日本的佳能、尼康也是光刻機(jī)的主要供應(yīng)商，它們主要針對中低端市場。上海微電子是國產(chǎn)光刻機(jī)的主要廠商，不過產(chǎn)品主要面向低端市場，經(jīng)過近20年的發(fā)展，上海微電子的產(chǎn)品已切入了各個細(xì)分市場，例如，上海微電子取得了LED光刻機(jī)市占率第一的成績。
最近，半導(dǎo)體制造被卡脖子的消息引發(fā)業(yè)界極大關(guān)注，其中一個重量級設(shè)備就是光刻機(jī)。不過，一個好消息是，國產(chǎn)光刻機(jī)真的要來了，上海微電子裝備(集團(tuán))股份有限公司披露，將在2021-2022年交付第一臺28nm工藝的國產(chǎn)的沉浸式光刻機(jī)。
雖然不及14nm、7nm甚至5nm先進(jìn)，但28nm工藝仍然是當(dāng)下半導(dǎo)體制造的主流工藝。
作為IC制造的重要工藝，光刻是其中非常重要的一項(xiàng)操作，據(jù)有關(guān)數(shù)據(jù)顯示，光刻在IC制造中所占的時間最長，而光刻機(jī)在半導(dǎo)體整體制造設(shè)備成本中占比也高達(dá)第一位，約為27%。
因此，28nm光刻機(jī)國產(chǎn)化對國內(nèi)半導(dǎo)體晶圓廠和即將上馬的半導(dǎo)體晶圓廠都是一個極大的利好消息。
21IC家了解到，上海微電子成立于2002年，是國內(nèi)技術(shù)最領(lǐng)先的光刻設(shè)備廠商。
上海微電子現(xiàn)有4大系列的光刻機(jī)產(chǎn)品，其中600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)面向IC前道制造，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù)，可用于90nm、110nm、280nm工藝和200mm、300mm晶圓生產(chǎn)。500系列面向IC后道先進(jìn)封裝，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。
光刻機(jī)小常識
所謂光刻，就是使用光在硅上印刷微小的電路圖案，從而批量生產(chǎn)各類集成電路芯片。光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是投影系統(tǒng)，把設(shè)計(jì)師設(shè)計(jì)的芯片圖案縮小之后刻在半導(dǎo)體材料上，經(jīng)過復(fù)雜的加工處理，就得到了各種功能的芯片。m.xx99av.com
使用的光波長越小，制造芯片的工藝制程越高。光刻技術(shù)經(jīng)歷了紫外全譜(300～450nm)、 G 線(436nm)、 I 線 (365nm)、深紫外(DUV，包括 248nm 和 193nm)和極紫外(EUV，13.5nm)六個階段。根據(jù)所使用的光的波長不同，可以將光刻機(jī)分為不同的種類。例如，使用極紫外(EUV，13.5nm)光的光刻機(jī)就是目前最高端的用于制造7nm工藝以上芯片的EUV光刻機(jī)。
在光刻機(jī)生產(chǎn)廠商中，荷蘭阿斯麥(ASML)是曝光最高的，因?yàn)樗殉指叨斯饪虣C(jī)市場，是現(xiàn)階段唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商，除了ASML，日本的佳能、尼康也是光刻機(jī)的主要供應(yīng)商，它們主要針對中低端市場。上海微電子是國產(chǎn)光刻機(jī)的主要廠商，不過產(chǎn)品主要面向低端市場，經(jīng)過近20年的發(fā)展，上海微電子的產(chǎn)品已切入了各個細(xì)分市場，例如，上海微電子取得了LED光刻機(jī)市占率第一的成績。
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